本报讯 4月23日，由国家知识产权局主办的2021年中国知识产权保护高层论坛召开。国家知识产权局局长申长雨表示，两年来，我国法律制度进一步完善，行政保护力度加大，下一步将加快完善相关知识产权法律法规，推动地理标志专门立法，强化人工智能、大数据等信息技术在知识产权审查和保护领域的应用。

　　申长雨表示，我国知识产权审查质量效率持续提升。高价值发明专利审查周期压减至14个月，商标注册平均审查周期压缩至4个月，均达到国际相同审查制度下的最快水平。发明专利审查结案准确率达到92.2%，商标注册审查抽检合格率达到96.7%。

　　此外，我国知识产权国际合作深入推进，建成国家海外知识产权纠纷应对指导中心和10家地方分中心，指导海外维权案件300多件。中国保护知识产权的努力和成效得到了各方面的高度认可。国内知识产权保护社会满意度提高到80分以上。我国在世界知识产权组织发布的《全球创新指数报告》中的排名提升到第14位，位居中等收入经济体之首。

　　申长雨透露，下一步，将加快完善相关知识产权法律法规，会同相关部门统筹推进专利法、商标法、著作权法、反垄断法、科学技术进步法等修订工作，增强法律之间的一致性。积极推动地理标志专门立法，更好促进地理标志产业发展。强化人工智能、大数据等信息技术在知识产权审查和保护领域的应用，建立健全大数据、人工智能、基因技术等新领域新业态知识产权保护规则，构筑未来发展新优势。赵晓雯