本报讯  近日，俄罗斯科学院西伯利亚分院克拉斯诺亚尔斯克科学中心的科研团队，采用多糖替代毒性还原剂，研发出铁钴合金薄膜高效、环保及廉价合成技术。所制备薄膜的性能，特别是磁性能优于传统工艺技术产品。相关成果发表在《Semiconductors》国际期刊上。

　　铁钴合金薄膜一般采用化学沉积方法制备，其重要的反应阶段是采用还原剂还原金属，并将其“涂覆”于基片表面，但该技术的缺点是还原剂具有毒性。该科研团队采用多糖作为还原剂对铁钴纳米结构薄膜制备化学方法进行了改进，该多糖是从落叶松中获得的，其成分为淀粉、蔗糖和阿拉伯半乳聚糖，具有生态安全性。所研发的工艺方法高效、简单和环保，而所制备薄膜的磁性优于同类，且杂质含量低，磁化系数高。